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磁增強反應離子刻蝕機

儀器型號：ME-3A型

購置年月：2012年6月

儀器簡介：

ME－3A型多功能機既可作反應離子刻蝕(RIE)，又可作磁增強反應離子刻蝕(MERIE)，且轉(zhuǎn)換十分方便(只需撥一下開關(guān))，由于有磁場的作用，它在較高真空度(< 1Pa)下亦可起輝并穩(wěn)定工作，因此，它不僅可用于常規(guī)的半導體干法刻蝕，還特別適用于亞微米和邊沿陡直圖形的刻蝕，使用不同的氣體，它可刻蝕Si₃N₄、SiO₂、磷硅玻璃、Si、poly－Si、W、WSi、Mo、石英、鈮、正、負光刻膠、聚乙酰亞胺等材料。該機型具有六路進氣入口(其中二路用于氣路清洗)，采用4個質(zhì)量流量計控制氣流流量，因此重復性好，可自動控時。另外，該機預抽真空的時間很短(3~5分鐘)，工作效率高，操作簡單。

應用范圍：

不僅可用于常規(guī)的半導體干法刻蝕，還特別適用于亞微米和邊沿陡直圖形的刻蝕。

技術(shù)參數(shù)：

1. 射頻功率：10-500瓦(可調(diào))

2. 真空系統(tǒng)：110升/秒分子泵機組

3. 均勻性：±5% (4英寸內(nèi))

4. 反應室尺寸：內(nèi)徑300 mm

5. 整機尺寸：1.06×0.7×1.32 m³